Tài liệu Khảo sát đặc điểm của plasma lạnh và khả năng ứng dụng trong xử lý nước thải công nghiệp quốc phòng - Nguyễn Cao Tuấn: Nghiên cứu khoa học công nghệ
Tạp chí Nghiên cứu KH&CN quân sự, Số 65, 02 - 2020 127
KHẢO SÁT ĐẶC ĐIỂM CỦA PLASMA LẠNH
VÀ KHẢ NĂNG ỨNG DỤNG TRONG XỬ LÝ NƯỚC THẢI
CÔNG NGHIỆP QUỐC PHÒNG
Nguyễn Cao Tuấn1*, Nguyễn Văn Hoàng1, Đặng Kim Chi2, Nguyễn Thị Dung1
Tóm tắt: Ứng dụng công nghệ plasma lạnh để xử lý nước thải bị ô nhiễm hợp
chất khó phân hủy là một hướng đi mới, đang rất được quan tâm nghiên cứu trong
những năm gần đây. Công nghệ này có nhiều ưu điểm so với các công nghệ truyền
thống khác do quá trình hình thành plasma tạo ra các tác nhân ôxi hóa ngay tại chỗ
-“in situ” trong quá trình xử lý như: bức xạ tử ngoại (UV), gốc hydroxyl (OH),
ozone (O3) và hydro peroxit (H2O2) [1-2]. Bài báo này trình bày kết quả khảo sát sự
hình thành plasma lạnh từ phóng điện màn chắn (DBD) và kết quả minh chứng sự
xuất hiện của các tác nhân oxi hóa trong pha lỏng. Ngoài ra, các kết quả áp dụng
thử công nghệ này để xử lý nước thải dây chuyền sản xuất thuốc gợi nổ có chứa
2,...
9 trang |
Chia sẻ: quangot475 | Lượt xem: 375 | Lượt tải: 0
Bạn đang xem nội dung tài liệu Khảo sát đặc điểm của plasma lạnh và khả năng ứng dụng trong xử lý nước thải công nghiệp quốc phòng - Nguyễn Cao Tuấn, để tải tài liệu về máy bạn click vào nút DOWNLOAD ở trên
Nghiên cứu khoa học công nghệ
Tạp chí Nghiên cứu KH&CN quân sự, Số 65, 02 - 2020 127
KHẢO SÁT ĐẶC ĐIỂM CỦA PLASMA LẠNH
VÀ KHẢ NĂNG ỨNG DỤNG TRONG XỬ LÝ NƯỚC THẢI
CÔNG NGHIỆP QUỐC PHÒNG
Nguyễn Cao Tuấn1*, Nguyễn Văn Hoàng1, Đặng Kim Chi2, Nguyễn Thị Dung1
Tóm tắt: Ứng dụng công nghệ plasma lạnh để xử lý nước thải bị ô nhiễm hợp
chất khó phân hủy là một hướng đi mới, đang rất được quan tâm nghiên cứu trong
những năm gần đây. Công nghệ này có nhiều ưu điểm so với các công nghệ truyền
thống khác do quá trình hình thành plasma tạo ra các tác nhân ôxi hóa ngay tại chỗ
-“in situ” trong quá trình xử lý như: bức xạ tử ngoại (UV), gốc hydroxyl (OH),
ozone (O3) và hydro peroxit (H2O2) [1-2]. Bài báo này trình bày kết quả khảo sát sự
hình thành plasma lạnh từ phóng điện màn chắn (DBD) và kết quả minh chứng sự
xuất hiện của các tác nhân oxi hóa trong pha lỏng. Ngoài ra, các kết quả áp dụng
thử công nghệ này để xử lý nước thải dây chuyền sản xuất thuốc gợi nổ có chứa
2,4,6-trinitroresocxin (TNR) đã cho thấy đây thực sự là hướng đi mới, có nhiều
triển vọng trong việc xử lý nước thải độc hại ở các nhà máy quốc phòng.
Từ khóa: Plasma lạnh; Gốc hydroxyl; TNR; Phóng điện màn chắn (DBD); Tia UV; Nước thải.
1. MỞ ĐẦU
Trên thế giới, đã có nhiều nghiên cứu ứng dụng công nghệ plasma lạnh để xử lý nước
thải. Các mô hình phóng điện màn chắn điện môi được thiết lập phần lớn có hai dạng: tuần
hoàn nước trong mô hình điện cực đồng trục hình trụ, điện cực cao áp được bọc bên ngoài
ống thạch anh cách điện [3-5] và tuần hoàn nước qua bề mặt điện cực nối đất, điện cực cao
áp được đặt cách khỏi mặt nước và thông qua màn chắn cách điện [6-7]. Tùy thuộc vào
quá trình xử lý để chọn mô hình phù hợp. Nghiên cứu này lựa chọn loại mô hình điện cực
đồng trục hình trụ cho các khảo sát (hình 1).
Khi đặt vào 2 cực một dòng điện cao áp đủ lớn, plasma lạnh sẽ hình thành, cùng với đó
là sự hình thành ozone (O3), tia UV và oxy nguyên tử cũng được tạo ra (1,2). Sau khi hấp
thụ vào nước, O3 tác động với các ion hydroxide (OH
-) và các phân tử nước để tạo thành
hydroxyl tự do (•OH) (3,4,5). Nước trên bề mặt bị bay hơi tạo thành các phân tử hơi nước,
dưới tác động va đập của các điện tử năng lượng cao được sinh ra từ quá trình ion hóa
không khí cũng như phản ứng của các ôxy nguyên tử (O) lên phân tử hơi nước sẽ tạo ra
thêm •OH (6,7).
Khi plasma hình thành cả trong pha lỏng và pha khí sẽ làm xuất hiện hai thành phần
ôxy hóa rất mạnh đó là O3 và
•OH trong môi trường nước theo các quá trình [2]:
- Quá trình hình thành ozone dưới tác động của tia lửa điện:
O2 + h O + O (1)
O + O2 O3 (2)
- Quá trình hình thành hydroxyl tự do khi ozone hòa tan trong nước:
O3 + OH
- O3
- + OH (3)
O3
- O - + O2 (4)
O - + H2O
OH + OH- (5)
- Quá trình hình thành hydroxyl tự do khi các điện tử năng lượng va đập vào phân tử
hơi nước:
e- + H2O
OH + H + e- (6)
- Quá trình hình thành hydroxyl tự do khi các ôxy nguyên tử phản ứng với phân tử hơi
nước:
Hóa học & Kỹ thuật môi trường
N. C. Tuấn, , N. T. Dung, “Khảo sát đặc điểm của plasma công nghiệp quốc phòng.” 128
O + H2O
OH + OH (7)
Tác động của các điện tử năng lượng cao của quá trình hóa học plasma và ozone đến
các phân tử nước sẽ tạo ra thêm OH, H và H2O2 [2], [8-9]:
OH + OH → H2O2 (8)
OH + O3 →
HO2 + O2 (9)
H + O3 →
OH + O2 (10)
HO2+ O3 →
OH + 2O2 (11)
HO2 +
H → H2O2 (12)
Các tác nhân oxi hóa hình thành từ quá trình plasma lạnh thuộc 2 nhóm: nhóm tác nhân
tồn tại trong thời gian khá dài như O3, H2O2, ánh sáng UV và nhóm tác nhân tồn tại trong
thời gian cực ngắn bao gồm gốc OH, H, HO2,...[10]. Việc xác định được hàm lượng
cũng như chứng minh sự xuất hiện của một số tác nhân oxi hóa này có ý nghĩa quan trọng
trong việc xác định các đặc điểm, vai trò của plasma lạnh trong việc xử lý chất ô nhiễm
hữu cơ khó phân hủy.
2. VẬT LIỆU VÀ PHƯƠNG PHÁP NGHIÊN CỨU
2.1. Nguyên liệu và hóa chất
- 2,4,6-trinitrorezocxin (TNR): dạng tinh thể có độ sạch phân tích (Nga).
- Dung môi etanol có độ sạch dùng cho phân tích HPLC (Merck - Đức).
- H2O2 có độ sạch phân tích, nồng độ dung dịch gốc 30% (Trung Quốc).
- Một số hóa chất khác như H2SO4, NaOH có độ sạch dùng cho phân tích (Trung
Quốc).
2.2. Thiết bị
- Hệ thống thiết bị sắc ký
lỏng cao áp (HPLC) Model
HP 1100, sử dụng detector
chuỗi (DAD), Aligent
(Mỹ); Cột Hypersil C18 (
200 x 4 mm).
- Thiết bị quang phổ tử ngoại
khả kiến UV-Vis Agilent
8453 (Mỹ) sử dụng
detector chuỗi (DAD);
- Máy đo nước đa chỉ tiêu
HandyLab 680 (Đức);
- Máy đo bức xạ tử ngoại
VLX-3W (Pháp);
- Cân phân tích CHYO (Nhật
Bản) có độ chính xác
±0,1mg;
- Bếp phá mẫu COD hãng
Hana, model HI839800-02,
Rumani.
2.3. Phương pháp, kĩ thuật nghiên cứu
Thiết lập mô hình thí nghiệm
Hình 1. Mô hình thí nghiệm tạo plasma lạnh [4].
Nghiên cứu khoa học công nghệ
Tạp chí Nghiên cứu KH&CN quân sự, Số 65, 02 - 2020 129
Mô hình thí nghiệm tạo plasma lạnh (hình 1) được dựa trên mô hình nghiên cứu của
Kuraica và cộng sự, 2006 [4]. Theo đó, plasma được tạo ra do quá trình phóng điện màng
chắn từ hệ thống điện cực đồng trục. Điện cực nối đất bằng ống inox 21mm được đặt bên
trong ống thạch anh cách điện 32mm. Điện cực cao áp bằng lá đồng mỏng bao quanh ống
thạch anh. Dung dịch nước cất được tuần hoàn trong hệ thống điện cực đồng trục nhờ bơm
vận tốc 415ml/phút. Nguồn cao áp có thể điều chỉnh thông qua chiết áp xoay.
Bảng 1. Thông số kỹ thuật mô hình plasma lạnh xử lý nước thải.
TT Thành phần
Hãng/ Nước
sản xuất
Thông số kỹ thuật
1 Nguồn cao áp Việt Nam Umax=21kV, Imax=22mA, f= 16kHz
2
Bơm tuần hoàn nước
thải
DIAPHRAGM
Pum/ Đài Loan
- Model HF-8369, lưu lượng ≤ 1,2
Lít/phút.
3
Ống thủy tinh cách
điện
Trung Quốc
- Đường kính 32mm, dày 3mm, cao
20cm
- Vật liệu: Thạch anh
4 Điện cực trong Việt Nam
- Ống inox, đường kính 21, dày 1mm,
cao 15cm
- Vật liệu: SUS 316
5 Điện cực ngoài -
- Lá đồng mỏng
(S=2,1x11,1=23,31cm2.
Phương pháp xác định COD
Hàm lượng COD trong mẫu nghiên cứu được xác định theo TCVN 6491:1999 (ISO
6060:1989): Chất lượng nước - xác định nhu cầu oxy hóa hóa học (COD).
Phương pháp xác định O3
Sử dụng bộ KIT Hanna HI38054 so màu xác định nồng độ theo hướng dẫn đi kèm [11].
Phương pháp xác định H2O2
Tiến hành theo Gallard & cộng sự [12] bằng việc tạo màu với Ti4+ điều chế từ 1,0g
TiO2 hoà tan trong 100ml H2SO4 đặc nóng (d=1,84 mg/l). Màu vàng được tạo ra do sự
hình thành của axit pertitanic:
Ti4+ + H2O2 + 2H2O → H2TiO4 + 4H
+ (13)
Mẫu tạo màu được xác định thông qua so màu trên máy UV-VIS, tỷ lệ Ti4+/H2O2 = 1/9
theo thể tích. Đường chuẩn H2O2 được lập có nồng độ từ 2,87-36,6mg/l, ở bước sóng
λ=400nm. Nồng độ này đã được hiệu chuẩn bằng KMnO4 0,05N.
Phương pháp định tính OH
Hằng số tốc độ phản ứng giữa Etanol (ETA) và OH rất lớn 1,8.109 (M-1.s-1). Vì vậy,
lượng OH phát sinh trong môi trường plasma lạnh nhanh chóng bị tiêu thụ hết bởi lượng
dư ETA trước khi tham gia xử lý chất ô nhiễm. Ứng dụng đặc điểm này để định tính sự
xuất hiện của tác nhân OH khi xử lý chất ô nhiễm, cụ thể cho TNR. Lượng ETA sử dụng
được pha với tỷ lệ nTNR:nETA = 1:1000
Phương pháp xác định cường độ bức xạ tử ngoại (UV)
Hóa học & Kỹ thuật môi trường
N. C. Tuấn, , N. T. Dung, “Khảo sát đặc điểm của plasma công nghiệp quốc phòng.” 130
Cường độ bức xạ tử ngoại UV (mW/cm2) được xác định bằng máy đo VLX-3W
(Pháp), tại 2 bước sóng: λ = 254nm (UVC) và λ= 312nm (UVB). Vì lý do an toàn, cảm
biến bức xạ được đặt đầu phía trên ống thạch anh (hình 1), khoảng cách đến điện cực
plasma là R=7,5cm. Tổng mức năng lượng bức xạ tử ngoại của nguồn phát được tính theo
công thức:
E = 4R2 x QR (mW) (14)
Trong đó: R là khoảng cách từ điện cực đến cảm biến bức xạ tử ngoại (cm);
QR là cường độ bức xạ ở khoảng cách R (mW/cm
2).
Phương pháp phân tích nồng độ TNR
Nồng độ TNR được xác định bằng phương pháp sắc ký lỏng cao áp HPLC, tại thời gian
lưu 2,6 phút; tín hiệu đo λ = 315nm. Pha động, tốc độ dòng 0,35 ml/phút.
3. KẾT QUẢ VÀ THẢO LUẬN
3.1. Khảo sát sự hình thành plasma lạnh
Từ mô hình thí nghiệm đã thiết lập (hình 1), tiến hành nâng dần công suất nguồn phát
để khảo sát sự phóng điện tạo plasma trong khe không khí giữa hai điện cực đồng trục của
mô hình. Khi điện áp đủ lớn, sẽ hình thành sự phóng điện giữa hai điện cực tạo môi trường
plasma có ánh sáng màu tím và có thể quan sát được.
Kết quả cho thấy khi điện áp đạt 7 kV, cường độ dòng điện I = 2,5 mA, xác định được
plasma bắt đầu hình thành khi nghe thấy âm thanh phát ra, nhưng chưa quan sát được bằng
mắt thường ở điều kiện ánh sáng ban ngày. Tăng dần điện áp khi U=9kV, I=3,5mA bắt
đầu quan sát thấy sự xuất hiện của plasma nhưng chưa đều và ánh sáng yếu (hình 2a). Khi
U=16kV; I=10mA plasma bắt đầu trải đều trong khe không khí giữa hai điện cực đồng
trục (hình 2b). Khi tiếp tục nâng công suất nguồn phát, các tia lửa điện phát ra dày hơn và
ánh sáng càng rõ hơn. Đồng thời xuất hiện mùi tanh và ánh sáng tử ngoại UV (quan sát
thấy màu tím đậm dần khi tăng công suất nguồn phát). Đến khi U=21kV; I=22mA công
suất nguồn đạt cực đại và ánh sáng phát ra là mãnh liệt nhất (hình 2c,d).
Hình 2. Mật độ plasma hình thành tại các công suất khác nhau.
3.2. Khảo sát nồng độ O3 hòa tan trong dung dịch
Để xác định nồng độ ozone sinh ra từ quá trình phóng điện plasma lạnh, thí nghiệm sử
dụng nước cất tuần hoàn qua buồng plasma và được lấy mẫu định kỳ để phân tích nồng độ
O3 hòa tan, kết quả được biểu diễn trên hình 3:
a, U=9kV
I=3,5mA
b, U=16kV
I=10mA
c, U=19kV
I=16mA
d, U=21kV
I=22mA
Nghiên cứu khoa học công nghệ
Tạp chí Nghiên cứu KH&CN quân sự, Số 65, 02 - 2020 131
0
0,5
1
1,5
2
2,5
3
3,5
0 15 30 60 90 120 150
N
ồ
n
g
đ
ộ
O
3
(
m
g/
l)
Thời gian (phút)
Hình 3. Sự biến đổi nồng độ O3 trong dung dịch theo thời gian.
Nồng độ O3 hòa tan trong dung dịch nước tăng dần theo thời gian phản ứng và đạt cực
đại tại 3,25 mg/l ở thời điểm 90 phút sau đó có xu hướng giảm xuống. Sự suy giảm nồng
độ O3 có thể là do sự gia tăng nhiệt độ của dung dịch nước do quá trình phóng điện
plasma. Tại thời điểm 90 phút nhiệt độ dung dịch đạt trên 58oC, dẫn đến sự phân hủy và
giảm độ hoà tan của ozone trong môi trường nước. Nhiệt độ nước đo được tại các thời
điểm của quá trình như sau:
Thời gian (phút) 0 15 30 60 90 120 150
Nhiệt độ (ºC) 30,2 44,4 53,2 56,2 58,4 58,4 58,3
3.3. Khảo sát sự hình thành H2O2
Kết quả theo dõi sự hình thành H2O2 được thể hiện trên hình 4:
0
1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
0 15 30 45 60 90 120 150
N
ồ
đ
ộ
H
2
O
2
(m
g/
l)
Thời gian (phút)
Hình 4. Sự biến đổi nồng độ H2O2 trong dung dịch theo thời gian.
Tương tự O3, nồng độ H2O2 trong dung dịch nước tăng mạnh trong khoảng thời gian
đầu phản ứng, đạt cực đại 9,5mg/l tại thời điểm 90 phút, sau đó nồng độ H2O2 giảm nhanh
theo thời gian. Do H2O2 không bền ở nhiệt độ cao, chúng nhanh chóng bị phân huỷ thành
nước và khí oxi.
3.4. Khảo sát sự xuất hiện của tác nhân OH
Khả năng xử lý nước thải khó phân hủy của plasma lạnh được đánh giá vai trò chính là
từ các gốc hydroxyl. Các gốc hydroxyl là một tác nhân có thời gian tồn tại rất ngắn và
Hóa học & Kỹ thuật môi trường
N. C. Tuấn, , N. T. Dung, “Khảo sát đặc điểm của plasma công nghiệp quốc phòng.” 132
trong hầu hết các trường hợp không thể phát hiện được trong chất lỏng trực tiếp [10].
Sự có mặt của H2O2 trong dung dịch như đã xác định ở trên là một trong các minh
chứng cho thấy sự xuất hiện các gốc OH do H2O2 được hình thành chủ yếu từ việc kết
hợp các gốc OH theo phản ứng [13][14]:
OH + OH → H2O2
Một cách khác có thể xác định một cách định tính sự xuất hiện gốc OH dựa trên phản
ứng cạnh tranh giữa gốc OH với etanol (ETA) và TNR trong cùng một dung dịch. Kết quả
so sánh sự suy giảm nồng độ TNR trong cùng thời gian phản ứng plasma lạnh trong
trường hợp có và không có ETA được trình bày trong hình 4:
0
20
40
60
80
100
120
140
160
0 15 30 60 90 120
TN
R
(m
g/
l)
thời gian (phút)
TNR : ETA
(1:1000)
TNR
Hình 5. Sự suy giảm nồng độ TNR khi có và không bổ sung etanol.
Kết quả trong hình 5 cho thấy rằng khi có mặt ETA, tốc độ phân hủy TNR chậm hơn
nhiều lần khi không có ETA. Điều này là do hằng số tốc độ phản ứng giữa gốc OH và
ETA rất lớn 1,8.109 (M-1.s-1) nên gốc OH dễ dàng phản ứng với ETA hơn so với TNR. Tại
thời điểm 120 phút, hiệu suất phân hủy TNR trong trường hợp có và không có ETA lần
lượt là 39,9% và 96,13% (gấp 2,4 lần) cho thấy quá trình plasma lạnh sản sinh các gốc
OH và đây là tác nhân chính phân hủy TNR trong nước thải.
3.5. Khảo sát cường độ bức xạ tử ngoại UV
Cường độ bức xạ tử ngoại UV được khảo sát ở 2 bước sóng đại diện: bước sóng ngắn
λ=254nm (UVC) và bước sóng trung bình λ=312 nm (UVB). Cường độ bức xạ tử ngoại
được xác định ở 2 chế độ công suất nguồn phát khác nhau: Chế độ 1: U=16kV, I=10mA
(CĐ1); Chế độ 2: U=22kV, I=19mA (CĐ2). Kết quả được thể hiện trên hình 5.
Kết quả hình 6 cho thấy đã ghi nhận được sự xuất hiện của bức xạ tử ngoại UV ở cả 2
bước sóng λ254 và λ312. Cường độ bức xạ tử ngoại tỉ lệ thuận với công suất nguồn phát.
Tổng mức năng lượng bức xạ tử ngoại của nguồn phát plasma ở các bước sóng như sau:
- Chế độ 1: E254 = 1,41 mW; E312 = 6,36 mW;
- Chế độ 2: E254 = 2,12 mW; E312 = 13,42 mW;
Kết quả trên cho thấy quá trình phóng điện plasma lạnh đã tạo ra bức xạ tử ngoại UV
với năng lượng chủ yếu tập trung ở vùng bước sóng trung bình (UVB).
Nghiên cứu khoa học công nghệ
Tạp chí Nghiên cứu KH&CN quân sự, Số 65, 02 - 2020 133
0
0,002
0,004
0,006
0,008
0,01
0,012
0,014
0,016
0,018
0,02
λ254 λ312
cư
ờ
n
g
đ
ộ
(
m
W
/c
m
2
)
Bước sóng (nm)
CĐ1
CĐ2
Hình 6. Cường độ ánh sáng UV tại bước sóng 254nm và 312nm
với công suất nguồn phát thay đổi.
3.6. Ứng dụng công nghệ plasma lạnh trong xử lý nước thải nhiễm TNR
Mẫu nước tự tạo nhiễm TNR được chuẩn bị ở nồng độ 250,1mg/l được bơm tuần hoàn
qua buồng plasma lạnh. Định kỳ mẫu được lấy phân tích xác định nồng độ COD và TNR.
Kết quả được trình bày trong hình 7:
0
50
100
150
200
250
300
0 15 30 45 60 75 90 120 150
N
ồ
n
g
đ
ộ
(
m
g
/l
)
TNR (mg/L)
COD (mg/L)
Hình 7. Sự suy giảm nồng độ TNR, COD khi xử lý bằng plasma lạnh.
Kết quả trong hình 7 cho thấy nồng độ TNR và COD trong nước giảm mạnh ở các
khoảng thời gian đầu xử lý. Sau 150 phút hiệu quả xử lý TNR đạt 100%, tuy nhiên hiệu
quả xử lý COD mới chỉ đạt 73,9%. Điều này có thể giải thích là do quá trình phản ứng
plasma mới chỉ chuyển hóa TNR thành các sản phẩm trung gian khác, vẫn chưa đủ thời
gian khoáng hóa hoàn toàn các hợp chất hữu cơ có trong nước thải. Mặc dầu vậy, chỉ sau
khoảng thời gian 30 phút, nồng độ COD trong nước thải đã đạt tiêu chuẩn xả thải của
QCVN 40:2011/BTNMT (<150 mg/l).
4. KẾT LUẬN
Trong phạm vi các thông số của mô hình được thiết lập, có thể quan sát được sự xuất
Hóa học & Kỹ thuật môi trường
N. C. Tuấn, , N. T. Dung, “Khảo sát đặc điểm của plasma công nghiệp quốc phòng.” 134
hiện của plasma lạnh trong dải điện thế từ U=9kV đến 21kV. Bằng thực nghiệm bài báo đã
chứng minh quá trình phóng điện tạo plasma lạnh sản sinh các tác nhân ôxi hóa mạnh như
O3, H2O2, tia UV và gốc
OH. Sự kết hợp tương hỗ của các tác nhân này tạo thành các hệ
phản ứng oxi hóa nâng cao (AOPs) có khả năng xử lý nhiều loại hợp chất hữu cơ bền có
trong nước thải. Kết quả thử nghiệm xử lý nước thải có chứa TNR là minh chứng cụ thể
cho thấy đây là hướng đi hoàn toàn mới mẻ và có nhiều triển vọng trong việc xử lý nước
thải có chứa các hợp chất hữu cơ bền đặc thù quốc phòng.
TÀI LIỆU THAM KHẢO
[1]. M. O. K. Y. Sun, J. O. Jin-oh, and L. E. E. Heon-ju, “Dielectric Barrier Discharge
Plasma-Induced Photocatalysis and Ozonation for the Treatment of Wastewater,”
Plasma Sci. Technol., vol. 10, pp. 100–105, 2008.
[2]. B. Jiang et al., “Review on electrical discharge plasma technology for wastewater
remediation,” Chem. Eng. J., vol. 236, pp. 348–368, 2014.
[3]. E. Krugly et al., “Decomposition of 2-naphthol in water using a non-thermal plasma
reactor,” Chem. Eng. J., vol. 260, pp. 188–198, Jan. 2015.
[4]. M. Kuraica, B. . Obradovic, D. Maojlovic, D. R. Ostojic, and J. Puric, “Application
of Coaxial Dielectric Barrier Discharge for Potable and Waste Water Treatment,” J.
Ind. Eng. Chem. Res., vol. 45, no. April, pp. 882-905., 2006.
[5]. M. Magureanu, D. Piroi, N. B. Mandache, V. David, A. Medvedovici, and V. I.
Parvulescu, “Degradation of pharmaceutical compound pentoxifylline in water by non-
thermal plasma treatment,” Water Res., vol. 44, no. 11, pp. 3445–3453, Jun. 2010.
[6]. D. Yan và cộng sự., “Principles of using Cold Atmospheric Plasma Stimulated
Media for Cancer Treatment,” Sci. Rep., vol. 5, 2015.
[7]. P. Vanraes et al., “Decomposition of atrazine traces in water by combination of non-
thermal electrical discharge and adsorption on nanofiber membrane,” Water Res.,
vol. 72, pp. 361–371, Apr. 2015.
[8]. D. R. Grymonpré, W. C. Finney, R. J. Clark, and B. R. Locke, “Hybrid Gas−Liquid
Electrical Discharge Reactors for Organic Compound Degradation,” Ind. Eng.
Chem. Res., vol. 43, no. 9, pp. 1975–1989, Apr. 2004.
[9]. S. P. Rong, Y. B. Sun, and Z. H. Zhao, “Degradation of sulfadiazine antibiotics by
water falling film dielectric barrier discharge,” Chinese Chem. Lett., vol. 25, no. 1,
pp. 187–192, Jan. 2014.
[10]. Y. Gorbanev, D. O’Connell, and V. Chechik, “Non-Thermal Plasma in Contact with
Water: The Origin of Species,” Chem. - A Eur. J., vol. 22, no. 10, pp. 3496–3505,
Mar. 2016.
[11]. “Zz.https://www.hannavietnam.com/assets/uploads/files/files/HI%2038054%20
(8_2018).pdf.”
[12]. H. Gallard and J. De Laat, “Kinetic modelling of Fe(III)/H2O2 oxidation reactions in
dilute aqueous solution using atrazine as a model organic compound,” Water Res.,
vol. 34, no. 12, pp. 3107–3116, 2000.
[13]. K. C. Hsieh, R. J. Wandell, S. Bresch, and B. R. Locke, “Analysis of hydroxyl
radical formation in a gas-liquid electrical discharge plasma reactor utilizing liquid
and gaseous radical scavengers,” Plasma Process. Polym., vol. 14, no. 8, 2017.
[14]. M. Magureanu, C. Bradu, and V. I. Parvulescu, “Plasma processes for the treatment
of water contaminated with harmful organic compounds,” J. Phys. D. Appl. Phys.,
vol. 51, p. 313002, 2018.
Nghiên cứu khoa học công nghệ
Tạp chí Nghiên cứu KH&CN quân sự, Số 65, 02 - 2020 135
ABSTRACT
SURVEY OF CHARACTERISTICS OF COLD PLASMA AND APPLICABILITY
IN DEFENSE INDUSTRIAL WASTEWATER TREATMENT
The application of cold plasma technology to treat persistent wastewater is a
new direction, which has been very interested in research in recent years. This
technology has many advantages compared to other traditional technologies
because the process of forming plasma creates oxidants on the spot - "in situ" in the
process such as: ultraviolet (UV) radiation. , hydroxyl radical (OH), ozone (O3)
and hydrogen peroxide (H2O2) [1], [2]. This paper presents the results of the
investigation of cold plasma formation from dielectric barrier discharge (DBD) and
the results demonstrate the appearance of oxidizing agents in liquid phase. In
addition, the results of the trial application of this technology to treat wastewater
generated from the explosive production line containing 2,4,6-trinitroresocxin
(TNR) have shown that this is really a new direction. There is a great deal of
potential for hazardous waste treatment in defense plants.
Keywords: Cold plasma; Hydroxyl radical; TNR; Dielectric barrier discharge (DBD); UV light; Wastewater.
Nhận bài ngày 24 tháng 12 năm 2019
Hoàn thiện ngày 05 tháng 02 năm 2020
Chấp nhận đăng ngày 17 tháng 02 năm 2020
Địa chỉ: 1Viện Công nghệ mới/ Viện Khoa học và Công nghệ quân sự;
2Viện Khoa học và Công nghệ môi trường/ Trường đại học Bách khoa Hà Nội.
*Email address: tuansintep@gmail.com.
Các file đính kèm theo tài liệu này:
- 13_cao_tuan_8634_2220868.pdf